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Plasma Technology for Advanced Devices | ||||||||||||||||
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Last update: February 10, 2009
01/09/09: Advanced dRAMS's drive HAR Etch
12/08/08: High-k etch performance for next-generation logic gate stacks
12/02/08: High Aspect Ratio Dielectric Etch Advancement
05/30/08: IMFT launches 34 nm flash
04/08/08: Etch's Role in Novel Logic Device Patterning
02/22/08: The Cutting Edge of Plasma Etching
11/05/07: SAMSUNG's 64 Gbyte SSD
09/02/07: Etching of porous SiOCH
07/18/07: Carina High Temperature Etch for High k / Metal Gates
06/12/07: Toshiba 3D SONOS
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