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Plasma Technology for Advanced Devices | ||||||||||||||||
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Last update: July 15, 2010
07/15/10: AdvantEdge Mesa: Angstrom Level Etch
06/30/10: Barrier to faster integrated circuits may be mere speed bump
12/23/09: XX European Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases
12/20/09: Curing of 193 nm resists
12/18/09: 3-rd International Conference on Plasma Nanatechnology and Science
10/29/09: First announcement: 3-rd Workshop on Plasma Etch and Strip
01/09/09: Advanced dRAMS's drive HAR Etch
12/08/08: High-k etch performance for next-generation logic gate stacks
05/30/08: IMFT launches 34 nm flash
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